簡(jiǎn)要描述:獵戶座 3100S 空氣分子污染物監(jiān)測(cè)系統(tǒng)軟件可以實(shí)時(shí)觀察、實(shí)時(shí)測(cè)量、實(shí)時(shí)操作對(duì)不同空間不同位置的NH3、HCL、HF進(jìn)行分析,軟件專門針對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)開發(fā),對(duì)于深紫外光刻工藝過程中監(jiān)測(cè)與控制空氣分子污染(AMC)提供有力的支持,軟件集成了多點(diǎn)采樣(MS)控制功能,具有實(shí)時(shí)顯示數(shù)據(jù)曲線、報(bào)警、存儲(chǔ)、趨勢(shì)、歷史曲線、分析等功能。
品牌 | 其他品牌 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,農(nóng)業(yè),石油,能源 |
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獵戶座3100系統(tǒng):完善的空氣分子污染物監(jiān)測(cè)系統(tǒng)
實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)空氣分子污染(AMC )對(duì)于半導(dǎo)體生產(chǎn)過程極為重要。
快速監(jiān)測(cè)、報(bào)警、極低濃度測(cè)量、寬測(cè)量區(qū)域、多氣體的高靈敏響應(yīng)等是半導(dǎo)體工業(yè)要求之一。深紫外光刻工藝特別關(guān)注氨、胺類、N-甲基毗咯烷酮NMP、酸類等濃度測(cè)量,當(dāng)這些氣體與化學(xué)放大光刻膠反生反應(yīng) 時(shí),將深深的影響半導(dǎo)體器件質(zhì)量。
傳統(tǒng)古老的方法多采用間接測(cè)量分析方法。包括撞擊濾塵器、離子色譜、化學(xué)熒光法,這些方法分析速度太慢,操作過程太復(fù)雜,昂貴并且測(cè)量結(jié)果不精確。
CEAS (腔增強(qiáng)吸收光譜)---原理
基于CEAS(腔增強(qiáng)吸收光譜)技術(shù)的儀器原理圖,使用近紅外波段光進(jìn)行高靈敏度吸收測(cè)量,測(cè)量腔室由一組高反射率多次反射鏡片組成的柱狀體構(gòu)成,激光束經(jīng)過固態(tài)校準(zhǔn)器(FSR=2.00GHz)時(shí)會(huì)測(cè)量得到相對(duì)激光波長(zhǎng)。為了保證清晰度,忽略了原本照射到左側(cè)測(cè)量單元腔鏡外的光束。
EP增強(qiáng)型版本集成了壓力傳感器和內(nèi)部溫度控制器,具有超穩(wěn)定性測(cè)量腔室,防止溫度漂移、壓力變化等造成的誤差。
CEAS(腔增強(qiáng)吸收光譜)相比于第一代的CRDS(腔衰蕩光譜)技術(shù),有許多已被證明的優(yōu)勢(shì)。簡(jiǎn)而言之,激光束不需要 共振耦合進(jìn)入測(cè)量腔室(例如光束不需要嚴(yán)格對(duì)準(zhǔn))。DUKE分析儀器和系統(tǒng)具有天生安裝簡(jiǎn)單、機(jī)械牢固、防護(hù)結(jié)實(shí)等特點(diǎn)。
上一產(chǎn)品:阿瑞斯-µVOC空氣分子污染物監(jiān)測(cè)系統(tǒng)
下一產(chǎn)品:EDK 6900P便攜式TDL激光氨氣分析儀